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復(fù)旦大學(xué),最新Nature Electronics!2D鈣鈦礦氧化物SNO助力高性能光電器件!

研究背景
隨著電子器件尺寸不斷縮小,為了提高器件性能并降低功耗,對(duì)于高柵電容的需求越來(lái)越迫切。然而,傳統(tǒng)的三維介電材料與二維半導(dǎo)體的集成面臨諸多挑戰(zhàn),包括界面質(zhì)量降低和表面損傷等問(wèn)題。傳統(tǒng)的三維介電材料在與無(wú)懸鍵表面的二維半導(dǎo)體集成時(shí),往往會(huì)出現(xiàn)非均勻成核和表面損傷等問(wèn)題,限制了器件性能的提升。同時(shí),對(duì)于高介電常數(shù)介電材料的選擇,需要平衡帶隙與介電常數(shù)之間的關(guān)系,以實(shí)現(xiàn)在單一微型器件平臺(tái)上集成多功能。
成果簡(jiǎn)介
為解決以上問(wèn)題,復(fù)旦大學(xué)方曉生教授團(tuán)隊(duì)等人進(jìn)行了大量的研究和實(shí)驗(yàn)。他們探索了各種高介電常數(shù)介電材料,并通過(guò)溫和的轉(zhuǎn)移方法,將其成功集成到二維通道材料上,避免了傳統(tǒng)沉積方法中的非均勻成核和表面損傷問(wèn)題。最終相關(guān)成果以題為“Two-dimensional perovskite oxide as a photoactive high-κ gate dielectric” 發(fā)表于Nature Electronics。研究人員選擇了二維鈣鈦礦氧化物Sr2Nb3O10(SNO)作為介電材料,該材料具有高介電常數(shù)、適中帶隙、分層結(jié)構(gòu)和高穩(wěn)定性等特點(diǎn)。通過(guò)溫和的轉(zhuǎn)移方法,成功將SNO集成到各種二維通道材料上,實(shí)現(xiàn)了對(duì)器件性能的顯著提升。
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圖文導(dǎo)讀

為了研究二維介電SNO納米片的制備和表征過(guò)程,研究者在圖1首先展示了SNO納米片的制備和器件制備過(guò)程的示意圖(見圖1a),然后通過(guò)原子力顯微鏡(AFM)觀察到SNO納米片的表面光滑且厚度極?。ㄒ妶D1b),透射電子顯微鏡(TEM)圖像展示了SNO納米片的矩形形狀和晶格結(jié)構(gòu)(見圖1c–g)。其中,高分辨透射電子顯微鏡(HRTEM)圖像顯示了SNO納米片具有良好的晶格結(jié)構(gòu),并且選區(qū)電子衍射(SAED)圖案清晰可見,證明了SNO納米片的高質(zhì)量制備。此外,能量色散X射線光譜(EDS)和X射線光電子能譜分析證實(shí)了SNO納米片的化學(xué)組成,并且X射線衍射(XRD)圖案進(jìn)一步表征了SNO納米片的晶體結(jié)構(gòu)。這些結(jié)果揭示了SNO納米片的制備過(guò)程和其在器件制備中的重要性,為后續(xù)的研究和應(yīng)用奠定了基礎(chǔ)。此外,液相剝離方法的可擴(kuò)展性和易操作性使得SNO納米片成為了大面積功能薄膜的理想構(gòu)建塊,為未來(lái)的電子學(xué)和光電子學(xué)研究提供了新的可能性。
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圖1. SNO納米片的制備和表征
圖2展示了SNO的介電性質(zhì)。在實(shí)驗(yàn)中,研究者構(gòu)建了雙柵石墨烯場(chǎng)效應(yīng)晶體管(FET),將SNO納米片與石墨烯通道集成,采用傳遞方法。圖2a展示了典型雙柵石墨烯FET的示意圖和光學(xué)圖像,其中SNO納米片作為頂部柵介質(zhì)。通過(guò)調(diào)節(jié)頂部和背部柵電壓,研究者能夠有效地調(diào)制通道內(nèi)的載流子。圖2b顯示了典型雙柵石墨烯FET的總電阻隨背部柵電壓的變化情況。結(jié)果表明,頂部柵電壓能夠有效地調(diào)制通道內(nèi)的載流子。圖2c展示了背部柵達(dá)克點(diǎn)電壓隨頂部柵電壓的變化情況,證明了頂部柵電壓的有效調(diào)制作用。通過(guò)測(cè)量不同厚度的SNO納米片作為頂部柵介質(zhì)的雙柵石墨烯FET,研究者得出了SNO的有效介電常數(shù)為24.6,高于常用的高κ介質(zhì)Al2O3和HfO2,表明了2D鈣鈦礦氧化物作為高κ介質(zhì)的潛力。此外,研究者還測(cè)量了SNO的光學(xué)帶隙和電導(dǎo)率,結(jié)果表明SNO具有良好的電介質(zhì)特性。
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圖2. SNO的介電性質(zhì)
研究人員制備了雙柵MoS2光電晶體管,以評(píng)估具有SNO介質(zhì)的器件性能。在該器件中,SNO和300 nm厚的SiO2被用作頂部和背部柵介質(zhì)。通過(guò)將SNO轉(zhuǎn)移到機(jī)械剝離的MoS2通道上并形成金屬接觸點(diǎn),構(gòu)建了雙柵器件。交叉的透射電子顯微鏡和EDS映射揭示了SNO柵介質(zhì)和MoS2通道具有典型的層狀結(jié)構(gòu)和清晰平坦的表面。圖3b,c顯示了器件結(jié)構(gòu)的剖面和元素分布,證明了轉(zhuǎn)移集成過(guò)程不會(huì)損傷二維材料的結(jié)構(gòu)。此外,SNO介質(zhì)與MoS2通道之間的小間隙降低了柵漏電流。圖3d中的能帶圖顯示了足夠大的導(dǎo)帶偏移,有利于減少施特基發(fā)射漏電流。圖3d–f展示了MoS2晶體管的電學(xué)特性,包括典型的n型特性和低漏電流。通過(guò)頂部和背部柵電壓的調(diào)控,器件實(shí)現(xiàn)了高開關(guān)比和低亞閾值擺幅,表明SNO是一種潛在的高κ介質(zhì)??傮w而言,這項(xiàng)研究為SNO在光電子器件中的應(yīng)用提供了理論基礎(chǔ),為二維電子學(xué)的發(fā)展帶來(lái)了新的可能性。
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圖3. 具有SNO頂柵介電層的雙柵MoS2光電晶體管
圖4中展示了MoS2光電晶體管在不同頂柵電壓(VTG)下,經(jīng)過(guò)光開關(guān)周期的時(shí)間分辨IDS和IGS曲線。在600nm可見光和300nm紫外光照射下,研究人員觀察到不同的電流響應(yīng)。在圖4a和b中,當(dāng)VTG > Vth時(shí),光電晶體管顯示出高IDS和可忽略的Iphoto/Idark。而當(dāng)VTG < Vth時(shí),光電晶體管進(jìn)入耗盡狀態(tài),暗電流被有效抑制,同時(shí)在可見光和紫外光照射下,IDS迅速增加。在圖4c和d中,IGS保持在低水平,表明SNO頂柵介電體對(duì)光電晶體管的高性能具有潛在作用。圖4e顯示了暗電流(Idark)和光電流(Iphoto)隨VTG變化的依賴關(guān)系,表明頂柵調(diào)制對(duì)光電性能的影響。此外,根據(jù)測(cè)量結(jié)果,提取了光電晶體管的響應(yīng)度(R)和特定探測(cè)度(D*),進(jìn)一步評(píng)估了其光電性能。圖4f展示了R和D*隨VTG的變化趨勢(shì),表明紫外光照射下的光電性能優(yōu)于可見光。最后,圖4g提供了能帶圖,解釋了SNO作為光活性高介電常數(shù)介質(zhì)對(duì)光電晶體管性能的影響機(jī)制。
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圖4. 具有SNO頂柵介電層的雙柵MoS2光電晶體管的光響應(yīng)
圖5展示了基于WS2通道材料的雙柵光電晶體管的電特性和光響應(yīng)。在圖5b中,通過(guò)對(duì)頂柵電壓(VTG)進(jìn)行調(diào)節(jié),在不同背柵電壓(VBG)下繪制了器件的傳輸特性曲線。在VBG大于-10V時(shí),器件呈現(xiàn)典型的n型特性,最大的開/關(guān)比超過(guò)了105。該器件的閾值電壓(Vth)隨著VBG的負(fù)偏移而正移,當(dāng)VBG小于-20V時(shí),器件呈現(xiàn)p型特性,表明了WS2通道的反轉(zhuǎn)現(xiàn)象。WS2晶體管在VBG=0V時(shí)表現(xiàn)出陡峭的次閾值斜率,表明了頂柵對(duì)WS2通道的強(qiáng)大控制能力。在可見光和紫外光的光開關(guān)周期中,WS2光電晶體管的光電性能進(jìn)行了研究。通過(guò)可見光照射下,器件在耗盡區(qū)的暗電流顯著減小,從而獲得了最大的Iphoto/Idark。隨著VTG的正偏移,器件的Iphoto增加,而Iphoto/Idark減小。此外,在紫外光照射下,WS2光電晶體管的IGS也顯示出明顯的光響應(yīng)。光譜響應(yīng)曲線顯示,器件的響應(yīng)度隨著VTG的正偏移而增加,并且紫外光范圍內(nèi)的響應(yīng)度明顯高于可見光范圍。
這些結(jié)果表明,基于SNO的頂柵介電體的雙柵WS2光電晶體管展現(xiàn)出了優(yōu)異的光電性能,具有高響應(yīng)度和雙波段光檢測(cè)的潛力。在研究中,雙波段光檢測(cè)器件的概念應(yīng)用得到了證明。通過(guò)將WS2光電晶體管依次照射600nm可見光和254nm紫外光,并記錄相應(yīng)的電輸出,證明了器件具有UV–可見雙波段光檢測(cè)性能。此種器件配置提供了單一小型化設(shè)備中的雙波段光檢測(cè)的有前途的解決方案。通過(guò)將SNO介電體與其他感興趣的通道材料集成,可以為更多應(yīng)用場(chǎng)景定制雙波段光響應(yīng)范圍,進(jìn)一步拓展了其應(yīng)用前景。
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圖5. 具有SNO頂柵介電層的雙柵WS2光電晶體管的電特性和光響應(yīng)
總結(jié)展望

本研究展示了2D鈣鈦礦氧化物Sr2Nb3O10(SNO)作為光活性高介電常數(shù)介質(zhì)在光電晶體管中的廣泛應(yīng)用潛力。通過(guò)簡(jiǎn)單的、無(wú)損傷的集成方法,SNO與多種2D通道材料(如石墨烯、MoS2、WS2和WSe2)兼容,展現(xiàn)了其作為通用光電介質(zhì)的靈活性。SNO作為頂柵介電材料,在光電晶體管中表現(xiàn)出卓越的光電性能,包括高響應(yīng)度、Iphoto/Idark比率和優(yōu)越的傳輸特性。
此外,研究團(tuán)隊(duì)成功演示了SNO-gated器件的UV-可見雙波段光檢測(cè)功能,為將單一器件用于廣泛光譜范圍的應(yīng)用提供了新的可能性。這些發(fā)現(xiàn)強(qiáng)調(diào)了2D高介電材料在電子學(xué)和光電子學(xué)中的潛在應(yīng)用,并為構(gòu)建高性能、多功能的光電子器件提供了新的材料和集成策略,對(duì)未來(lái)先進(jìn)電子技術(shù)和光電子技術(shù)的發(fā)展產(chǎn)生了積極的科學(xué)啟迪。
文獻(xiàn)信息
Li, S., Liu, X., Yang, H. et al. Two-dimensional perovskite oxide as a photoactive high-κ gate dielectric. Nat. Electron. (2024). 10.1038/s41928-024-01129-9.

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