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????Angew.:金屬缺陷和表面化學(xué)重構(gòu)協(xié)同,助力NiCo2S4/ZnS異質(zhì)結(jié)優(yōu)異的電催化性能

????Angew.:金屬缺陷和表面化學(xué)重構(gòu)協(xié)同,助力NiCo2S4/ZnS異質(zhì)結(jié)優(yōu)異的電催化性能
缺陷和界面工程被認(rèn)為是調(diào)節(jié)電子結(jié)構(gòu)和提高金屬硫化物活性的有效策略。然而,硫化物在電催化過程中電導(dǎo)率低、體積波動(dòng)大、活性迅速下降,限制了其實(shí)際應(yīng)用。此外,由于不可避免的電化學(xué)重構(gòu),很難確定硫化物的確切活性位點(diǎn)。近日,內(nèi)蒙古大學(xué)王勤教授(通訊作者)等人報(bào)道了一種在NiCo2S4納米片的表面上錨定了具有Zn缺陷的ZnS納米顆粒,構(gòu)建了NiCo2S4/ZnS雜化物。
????Angew.:金屬缺陷和表面化學(xué)重構(gòu)協(xié)同,助力NiCo2S4/ZnS異質(zhì)結(jié)優(yōu)異的電催化性能
研究發(fā)現(xiàn),錨定的缺陷ZnS納米球抑制了NiCo2S4納米片在循環(huán)過程中的體積膨脹,保證了復(fù)合材料的結(jié)構(gòu)穩(wěn)定性。所制備的NiCo2S4/ZnS異質(zhì)結(jié)構(gòu)雜化材料具有優(yōu)異的OER性能,具有140 mV的超低過電位,Tafel斜率為47 mV·dec-1,是目前金屬硫化物中活性最好的雜化材料之一。
????Angew.:金屬缺陷和表面化學(xué)重構(gòu)協(xié)同,助力NiCo2S4/ZnS異質(zhì)結(jié)優(yōu)異的電催化性能
圖1 NiCo2S4/ZnS的制備與表征
密度泛函理論(DFT)計(jì)算表明,內(nèi)建界面電位和Zn缺陷可以促進(jìn)*O轉(zhuǎn)變?yōu)?OOH的熱力學(xué)形成,提高了內(nèi)在活性,從而提高催化性能。該研究為構(gòu)建具有豐富Zn缺陷的多相結(jié)構(gòu)提供了一種簡(jiǎn)單的策略,并為高性能催化劑的界面工程領(lǐng)域提供了啟示。
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圖2 NiCo2S4/ZnS的催化性能
Synergetic Metal Defect and Surface Chemical Reconstruction into NiCo2S4/ZnS Heterojunction to Achieve Outstanding Electrocatalysis Performance. Angew. Chem. Int. Ed., 2021, DOI: 10.1002/anie.202107731.
https://doi.org/10.1002/anie.202107731.

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