納米科技的發(fā)展對(duì)納米結(jié)構(gòu)的高精度可控制備有較強(qiáng)的依賴(lài)性。三維納米結(jié)構(gòu)由于其具有更大的空間自由度、更豐富的物理特性和功能特性，在納米存儲(chǔ)、超材料、等離激元器件等領(lǐng)域得到廣泛應(yīng)用。

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然而，傳統(tǒng)的微納加工技術(shù)（例如電子束直寫(xiě)、聚焦離子束刻蝕和無(wú)掩膜曝光等）雖然可以在平面襯底上高精度地定義任意一維或二維的圖案，但在三維納米結(jié)構(gòu)的制備上依然存在諸多限制。所以，怎樣有效地構(gòu)筑三維納米結(jié)構(gòu)及其功能器件引起了眾多研究者的極大興趣。

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近日，中山大學(xué)材料學(xué)院材料科學(xué)與工程學(xué)院、光電材料與技術(shù)國(guó)家重點(diǎn)實(shí)驗(yàn)室的金崇君教授研究組發(fā)展了一種簡(jiǎn)便、高效、普適的基于水溶性犧牲層輔助的納米轉(zhuǎn)印及三維組裝技術(shù)，將包含金光柵的納米結(jié)構(gòu)轉(zhuǎn)移至聚二甲基硅氧烷（PDMS）柔性襯底上。

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同時(shí)，通過(guò)自組裝單分子層調(diào)節(jié)PDMS/納米結(jié)構(gòu)以及納米結(jié)構(gòu)/目標(biāo)襯底之間的粘性，將納米結(jié)構(gòu)有效地從PDMS襯底轉(zhuǎn)印到目標(biāo)襯底上。最終，重復(fù)上述納米轉(zhuǎn)印過(guò)程進(jìn)行三維組裝，實(shí)現(xiàn)了大面積、無(wú)裂縫的三層旋轉(zhuǎn)金納米光柵結(jié)構(gòu)（下圖）。

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更進(jìn)一步，基于此三層旋轉(zhuǎn)金納米光柵結(jié)構(gòu)，他們?cè)诮t外波段（2000-4000 nm）實(shí)現(xiàn)了高效率的寬帶偏振旋轉(zhuǎn)（下圖）。

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此外，該器件的總厚度僅為780 nm，使其作為集成光路組件成為可能。

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該研究表明，這種水溶性犧牲層輔助的納米轉(zhuǎn)印及三維組裝技術(shù)有望為三維納米結(jié)構(gòu)、亞波長(zhǎng)光學(xué)器件的制備提供一個(gè)可能的解決方案。

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鄭超群碩士生和沈楊研究員為共同第一作者，金崇君教授為通訊作者。該研究已申請(qǐng)國(guó)內(nèi)發(fā)明專(zhuān)利 （CN 108528078A? 2018. 09. 14），具有自主知識(shí)產(chǎn)權(quán)。

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該研究成果以題為“Layer-by-Layer Assembly of Three-Dimensional Optical Functional Nanostructures”的論文在線(xiàn)發(fā)表在ACS Nano 2019, 13, 5583?5590。

論文鏈接：https://pubs.acs.org/doi/abs/10.1021/acsnano.9b00549