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AFM：Fe0.1Ni0.9O薄膜保護(hù)的Mo:BiVO4光電極用于高效穩(wěn)定光電化學(xué)OER

光電化學(xué)分解水是一種具有優(yōu)異前景的制氫方法。然而催化劑的光腐蝕作用會(huì)導(dǎo)致其失去活性，這限制了其實(shí)際應(yīng)用。

德國(guó)慕尼黑大學(xué)Thomas Bein和弗萊堡大學(xué)Anna Fischer等報(bào)道了一種 Fe_0.1Ni_0.9O薄膜保護(hù)的Mo:BiVO₄光電極，能夠高效穩(wěn)定進(jìn)行光電化學(xué)水分解。

作者利用基于ALD的保護(hù)策略，制備出被超薄、共形和氧化穩(wěn)定的金屬氧化物薄膜保護(hù)的Mo:BiVO₄光電極。

該光電極能夠在4.7 mA cm^-2的光電流密度下連續(xù)反應(yīng)16 h，而裸的Mo:BiVO₄光電極在前兩個(gè)小時(shí)達(dá)到最大性能(光電流密度為1.9 mA cm^-2)，超過(guò)16 h后，光電極的性能持續(xù)下降，直至光電流密度降為1.2 mA cm^-2。

結(jié)果表明，F(xiàn)e_0.1Ni_0.9O保護(hù)了Mo:BiVO₄光電極，薄的Fe_0.1Ni_0.9O又可以加速電荷在電極-電解質(zhì)的轉(zhuǎn)移，從而增加了電極上的光電流。另外，F(xiàn)e_0.1Ni_0.9O的應(yīng)用導(dǎo)致更快的瞬態(tài)電流響應(yīng)，表明該催化劑具有快速和有效的空穴轉(zhuǎn)移能力。

Ultra-thin protective coatings for sustained photoelectrochemical water oxidation with Mo:BiVO₄. Advanced Functional Materials, 2021. DOI: 10.1002/adfm.202011210

原創(chuàng)文章，作者：Gloria，如若轉(zhuǎn)載，請(qǐng)注明來(lái)源華算科技，注明出處：http://m.xiubac.cn/index.php/2023/10/12/64f6bf9e42/

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