設(shè)計和開發(fā)用于太陽能轉(zhuǎn)化為化學(xué)能的可見光響應(yīng)材料是實現(xiàn)碳中和的一種有效且有前景的方法。
基于此,上海理工大學(xué)李貴生教授和范金辰教授、上海電力大學(xué)閔宇霖教授(共同通訊作者)等人報道了一種原位水熱生長策略,將Mo修飾的ZnIn2S4(Mo-ZIS)納米片與NiTiO3(NTO)結(jié)合,合成了具有增強界面電場(IEF)效應(yīng)和典型S-型異質(zhì)結(jié)的多功能Mo修飾ZIS包覆NTO微棒(Mo-ZIS@NTO)光催化劑。
所制備的Mo1.4-ZIS@NTO催化劑表現(xiàn)出優(yōu)異的性能,H2析出速率高達14.06 mmol g?1 h?1,在420 nm處的表觀量子效率為44.1%。
通過模擬計算,得到了Mo-ZIS@NTO催化劑的電子性能。ZIS和Mo-ZIS的最大價帶(VBM)值主要由單個S-3p軌道貢獻,而導(dǎo)帶最小值(CBM)均來自In-5s和S-3p軌道。
相比之下,Mo-ZIS的投射態(tài)密度(PDOS)的主要特征是在費米能級附近出現(xiàn)Mo 4d-S 3p鍵共振并形成雜化。雜交可以在Mo-ZIS中產(chǎn)生一些超出費米能級的狀態(tài),并作為電子受體抑制e?-h +對的重組。
吉布斯自由能(ΔGH*)是衡量PHE活性的主要指標,當ΔGH*接近于零時,性能最佳。
表面催化制氫反應(yīng)主要有兩個步驟:
(1)活性位點(*)吸附質(zhì)子并與電子結(jié)合形成活性中間體(H*)(H+ + e? + *→H*);
(2)質(zhì)子快速解吸促進H2分子析出(2H*→H2 + 2*)。ZIS的ΔGH*值為-0.202 eV,表明質(zhì)子的強吸附不利于中間產(chǎn)物H*的釋放,而Mo-ZIS和Mo-ZIS@NTO催化劑的ΔGH*值分別下降至-0.176和-0.127 eV。
因此,Mo-ZIS@NTO中IEF的增強誘導(dǎo)了電荷的重新分布,使得H2更容易形成和析出。
Mo-Modified ZnIn2S4@NiTiO3 S-Scheme Heterojunction with Enhanced Interfacial Electric Field for Efficient Visible-Light-Driven Hydrogen Evolution. Adv. Funct. Mater., 2023, DOI: 10.1002/adfm.202213131.
https://doi.org/10.1002/adfm.202213131.
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