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蔡曉燕/于濤AFM:S空位調(diào)節(jié)金屬Cu-Ga鍵促進光催化CO2還原為C2H4

蔡曉燕/于濤AFM:S空位調(diào)節(jié)金屬Cu-Ga鍵促進光催化CO2還原為C2H4
太陽能驅(qū)動的光催化二氧化碳減排技術(shù)受到了廣泛關(guān)注,因為它不僅可以制備高附加值的燃料(如CO、CH4、C2H4、CH3OH等),而且還可以減少CO2污染。然而,在CO2還原過程中的轉(zhuǎn)換效率和產(chǎn)物選擇性都受限于有限的電荷轉(zhuǎn)移效率和反應(yīng)模式,這導(dǎo)致其遠遠低于可接受的應(yīng)用水平。因此,如何開發(fā)具有高導(dǎo)電性和具有適當(dāng)反應(yīng)位點的高效光催化劑仍然是一個巨大的挑戰(zhàn)。
基于此,中國礦業(yè)大學(xué)(徐州)蔡曉燕和天津大學(xué)于濤(共同通訊)等人通過S缺陷工程對Cu和Ga在超薄CuGaS2/Ga2S3(Ultra-thin CGS/GS)上的幾何位置進行了定向,而且S空位誘導(dǎo)的離域電子分布強度表明,與S空位相鄰的Cu和Ga形成Cu-Ga金屬鍵,加速了CO2光催化還原成C2H4的過程。
蔡曉燕/于濤AFM:S空位調(diào)節(jié)金屬Cu-Ga鍵促進光催化CO2還原為C2H4
在光催化CO2還原過程中,本文只監(jiān)測到了氣態(tài)產(chǎn)物C2H4、CH4、CO和H2,未檢測到其他氣態(tài)產(chǎn)物。H2作為CO2還原反應(yīng)的競爭反應(yīng)的產(chǎn)物,為后續(xù)的CO2加氫反應(yīng)提供了條件。因此,隨著反應(yīng)時間的延長,超薄GGS/GS上的C2H4生成幾乎呈線性分布,以達到最優(yōu)的性能(選擇性≈93.87%,產(chǎn)率≈335.67 μ mol g-1 h-1),顯著高于CuGaS2/Ga2S3(CGS/GS)、CuGaS2(CGS)和Ga2S3(GS)。
為了進一步提升催化劑的CO2還原性能,本文還制備了不同CGS和GS比例的復(fù)合催化劑,并通過一系列實驗評價了其催化性能。測試結(jié)果表明,C2H4的生成隨著輻照時間的延長而增加,這表明了超薄CuGaS2/Ga2S3的C-C耦合能力的可持續(xù)性。
此外,與生成CO的2電子過程和生成CH4的8電子過程相比,CO2還原為C2H4是一個12電子過程,這表明C2H4的形成在動態(tài)上更難以發(fā)生,電子和空穴對在光催化劑上的復(fù)合使產(chǎn)物不會隨反應(yīng)時間的延長而線性增加,因此本文通過加入TEOA來減少電子和空穴的復(fù)合是可行的,并且通過傅里葉變換紅外光譜證明在反應(yīng)過程中沒有TEOA的光解作用。
值得注意的是,在測試過程中,超薄CGS/Gs的CO產(chǎn)率(51.67 μmol g-1 h-1)低于CGS/GS(71.31 μmol g-1 h-1)。從以上分析可以推斷,超薄CGS/GS表面優(yōu)先促進*COOH中間體形成C-C耦合產(chǎn)物(*CHOHCO)。
蔡曉燕/于濤AFM:S空位調(diào)節(jié)金屬Cu-Ga鍵促進光催化CO2還原為C2H4
提升催化劑的電子轉(zhuǎn)移能力是提高催化劑的光催化性能的重要因素。為了直接分析界面處的電荷轉(zhuǎn)移機理,本文在暗光和可見光照射(λ≥420 nm)條件下,利用開爾文探針力顯微鏡(KPFM)對CGS/GS和超薄CGS/GS進行了表征。CGS/GS和超薄CGS/GS的KPFM圖像表明,GS(位置A)分布在CGS(位置B)的邊緣,而且超薄CGS/GS的位置A的電勢在光照后增加了約6.4 mV,而位置B的電勢降低了約10.3 mV,這表明電子從GS轉(zhuǎn)移到CGS,這也為CO2生成C2H4提供了更多的電子。超薄CGS/GS的CGS(位置B)的表面電勢比CGS/GS下降的更多,這表明含有S空位的薄層結(jié)構(gòu)可以提供更多的電子。
本文的密度泛函理論(DFT)計算進一步揭示了界面處的S空位和電荷轉(zhuǎn)移對電子結(jié)構(gòu)的調(diào)節(jié)。計算得到的CGS和GS的電荷密度差進一步證實了超薄CGS/GS中S空位的存在導(dǎo)致了S空位附近Cu和Ga原子的電荷富集。為了探究超薄CGS/GS具有高光催化活性的原因,本文還利用電子局域函數(shù)研究了S空位周圍離子的鍵合類型。
計算結(jié)果表明,S空位在S原子區(qū)域引起了較強的離域電子分布,導(dǎo)致S空位附近的Cu和Ga之間發(fā)生了局部金屬化,形成了Cu-Ga金屬鍵。Bader電荷結(jié)果也表明,S空位周圍的Cu和Ga富集了電子。
因此,Cu-Ga有望作為耦合雙位點來穩(wěn)定*CHO*CO和*CHOHCO中間體,并可能降低C2H4形成的能壘。仔細分析*OCCHOH中間體的分子結(jié)構(gòu)還可以發(fā)現(xiàn),C-C距離≈1.34 ?,C-C位點的鍵角≈110-120°,因此形成*OCCHOH的兩個活性位點之間的理想距離≈2.6 ?。
因此,在活性位點周圍適當(dāng)?shù)木嚯x引入硫空位可以顯著提高催化劑的催化活性和C2H4選擇性。總之,本研究為提高了催化劑光催化CO2還原的效率提供了一個新的途徑。
蔡曉燕/于濤AFM:S空位調(diào)節(jié)金屬Cu-Ga鍵促進光催化CO2還原為C2H4
Regulating the Metallic Cu-Ga Bond by S Vacancy for Improved Photocatalytic CO2 Reduction to C2H4, Advanced Functional Materials, 2023, DOI: 10.1002/adfm.202213901.
https://doi.org/10.1002/adfm.202213901.

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