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成果簡(jiǎn)介

負(fù)載型氧化物（Supported oxides）廣泛的應(yīng)用于許多重要的催化反應(yīng)中，其中氧化物催化劑與氧化物載體之間的相互作用至關(guān)重要，但目前還不清楚?；诖?，中國(guó)科學(xué)院大連化學(xué)物理研究所包信和院士和傅強(qiáng)研究員（共同通訊作者）等人報(bào)道了一種簡(jiǎn)單的策略，通過(guò)形成物理接觸和化學(xué)結(jié)合的界面來(lái)控制氧化物-載體的相互作用。通過(guò)化學(xué)沉積將四氧化三鈷（Co₃O₄）負(fù)載到氧化鋅（ZnO）粉末上（Co₃O₄/ZnO），構(gòu)建了一個(gè)化學(xué)鍵合的氧化物界面，在這個(gè)界面中Co₃O₄完全還原為Co⁰受到了強(qiáng)烈的阻礙。

測(cè)試結(jié)果表明，Co氧化物與ZnO載體之間的局部界面約束效應(yīng)有助于在CO₂加氫反應(yīng)中保持CoO_x的亞穩(wěn)狀態(tài)，生成CO的選擇性達(dá)到了93%。相反，通過(guò)機(jī)械混合Co₃O₄和ZnO粉末（Co₃O₄-ZnO）形成物理接觸的氧化物界面，從而顯著促進(jìn)Co₃O₄還原為Co⁰。

在CO₂加氫反應(yīng)中，CO₂轉(zhuǎn)化率迅速提高到45%，對(duì)CH₄選擇性高達(dá)92%，這種界面效應(yīng)歸因于從ZnO納米顆粒中解離的氫不尋常的遠(yuǎn)程溢出到鄰近的Co氧化物納米顆粒中。該工作清楚地說(shuō)明了在氧化物-氧化物界面上同樣重要但相反的局部和遠(yuǎn)程效應(yīng)，不同的氧化物-氧化物相互作用導(dǎo)致了氧化物-氧化物催化體系中許多不同的界面現(xiàn)象。

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研究背景

氧化物催化劑的表面和界面通常是催化反應(yīng)的活性位點(diǎn)，優(yōu)化表面/界面結(jié)構(gòu)對(duì)于最大限度地提高催化性能具有重要意義。其中，氧化物催化劑可很好地支撐在固體表面上，形成的氧化物-支撐界面對(duì)表面反應(yīng)性有很大影響。

氧化物-氧化物相互作用在氧化物催化中起著重要作用，但在氧化物/氧化物催化劑中觀察到許多不同甚至矛盾的界面現(xiàn)象，這些現(xiàn)象敏感地依賴于氧化物載體、氧化物催化劑負(fù)載、制備工藝等。研究發(fā)現(xiàn)，負(fù)載型氧化物催化劑表面與載體之間可能存在局部界面鍵合，有助于穩(wěn)定負(fù)載型氧化物催化劑中高活性的配位不飽和陽(yáng)離子。此外，活性物種如氫、氧和堿金屬原子可在氧化物-載體界面上遠(yuǎn)距離傳輸，從而導(dǎo)致催化的遠(yuǎn)程控制。

研究表明，許多與金屬組分接觸的氧化物會(huì)受到溢出效應(yīng)的影響，而溢出效應(yīng)又通過(guò)遠(yuǎn)程相互作用調(diào)節(jié)其結(jié)構(gòu)和催化性能。氫或氧在金屬-氧化物界面上的溢出被廣泛的研究，但跨越氧化物-氧化物界面的過(guò)程可能是活躍的，且很少被探索。因此，關(guān)于氧化物上解離的H是否可以遷移到另一個(gè)連接的氧化物上很少被研究，在負(fù)載型氧化物催化劑上的含氫催化反應(yīng)中應(yīng)該仔細(xì)考慮。

圖文導(dǎo)讀

催化性能

純Co₃O₄催化劑上的產(chǎn)物主要由CH₄（88%）和微量CO組成，而Co₃O₄/ZnO催化劑上的CO₂轉(zhuǎn)化率降低，產(chǎn)物分布也有明顯變化。具體而言，CO的選擇性從12%提高到93%，CH₄的選擇性從88%降低到7%。

隨著CO₂轉(zhuǎn)化率的降低，Co₃O₄催化劑的CH₄選擇性略有降低，但產(chǎn)物中仍以CH₄為主，而Co₃O₄/ZnO的主要產(chǎn)物是CO，轉(zhuǎn)化率相當(dāng)。在350 °C下，CO₂轉(zhuǎn)化率和CO選擇性在100 h以上幾乎沒(méi)有變化，表明它具有優(yōu)越的穩(wěn)定性。

準(zhǔn)原位XPS和原位近環(huán)境壓力XPS（NAP-XPS）分析表明，純Co₃O₄催化劑被還原為金屬Co，而Co₃O₄/ZnO催化劑中的Co₃O₄僅在CO₂/H₂氣氛中被還原為CO²⁺。

結(jié)果表明，在富H₂的反應(yīng)氣氛中，局部界面鍵可以穩(wěn)定CoO_x（亞穩(wěn)態(tài)），表明Co氧化物催化劑和ZnO載體之間存在很強(qiáng)的界面約束效應(yīng)。此外，在富H₂反應(yīng)流中，只有靠近氧化物/載體界面的Co₃O₄組分才能穩(wěn)定在CoO_x狀態(tài)，而遠(yuǎn)離界面的Co₃O₄組分不能維持CoOx狀態(tài)而轉(zhuǎn)變?yōu)镃o⁰，導(dǎo)致產(chǎn)物選擇性發(fā)生變化。

圖1. CO-TPR、H₂-TPR和準(zhǔn)原位XPS Co 2p光譜表征

圖2. 拉曼光譜、XPS Co 2p和Zn 2p光譜表征

圖3. 催化性能

遠(yuǎn)程氫溢出效應(yīng)

原位拉曼分析表明，Co₃O₄-ZnO樣品中Co氧化物的信號(hào)在400 ℃暴露于10% H₂/N₂氣體后消失，而在450 °C的純Co₃O₄中，這些峰還存在，表明在此條件下Co氧化物仍然存在。對(duì)于純Co₃O₄，CoO的衍射峰在350 ℃還原1 min后出現(xiàn)，還原時(shí)間達(dá)到80 min時(shí)衍射峰最強(qiáng)；對(duì)于Co₃O₄-ZnO，在20 min時(shí)同時(shí)觀察到CoO和Co⁰，在80 min時(shí)CoO完全還原為Co⁰，明顯短于純Co₃O₄（200 min）。純Co₃O₄的Co²⁺信號(hào)強(qiáng)度在38 min時(shí)顯著增加，而Co₃O₄-ZnO的Co²⁺信號(hào)強(qiáng)度在15 min時(shí)顯著增加，并且Co₃O₄-ZnO中的Co²⁺在28 min時(shí)開(kāi)始轉(zhuǎn)化為Co⁰。

圖4. 原位拉曼、原位XRD和NAP-XPS Co 2p光譜表征

CO-TPR表明，Co₃O₄-ZnO的CO還原行為與Co₃O₄相似，兩者都在283 °C和327 °C處出現(xiàn)了兩個(gè)CO消耗峰，表明兩種催化劑的表面Co-O結(jié)合強(qiáng)度相同。

H₂-TPR表明，Co₃O₄-ZnO的還原溫度遠(yuǎn)低于純Co₃O₄的還原溫度，表明ZnO促進(jìn)了H₂中Co₃O₄的還原。在100-600 °C范圍內(nèi)，H₂幾乎不被ZnO還原，但很容易被ZnO激活，表明ZnO上H-D交換的起始溫度遠(yuǎn)低于Co₃O₄。因此，ZnO在H₂中促進(jìn)Co₃O₄還原，而在CO氣流中不促進(jìn)Co₃O₄還原，可能與H₂在ZnO上的解離密切相關(guān)，這歸因于氫溢出效應(yīng)

圖5. CO-TPR、H₂-TPR譜圖和H-D交換數(shù)據(jù)

圖6. 還原溫度探究

圖7. H溢出效應(yīng)和局部界面作用對(duì)CO₂加氫的影響示意圖

文獻(xiàn)信息

Disentangling Local Interfacial Confinement and Remote Spillover Effects in Oxide-Oxide Interactions. J. Am. Chem. Soc., 2023, DOI: 10.1021/jacs.3c02483.

原創(chuàng)文章，作者：Gloria，如若轉(zhuǎn)載，請(qǐng)注明來(lái)源華算科技，注明出處：http://m.xiubac.cn/index.php/2023/10/01/cf26e7d49d/

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